光刻机制程和精度区别大吗（光刻机制程和精度区别大吗为什么）
光刻机制程和精度区别大吗（光刻机制程和精度区别大吗为什么）
中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距。
第一，目前全球*进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二，中国进口*进的光刻机，是7nm。
2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。
但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三，目前国产*进的光刻机，应该是22nm。
根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。
22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破
中国和世界*光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球*的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。
光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分，就是我们把想要设计的芯片，用光学技术刻在晶圆上，用光学技术把各种各样形式的电路通过光刻胶把电路印制在基板上， 然后再进行下一步的刻蚀过程 。通过光刻胶印制的电路可以使阳文形式的电路，也可以是阴文形式的电路。
光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。
一台*的光刻机需要各种*的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。
我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的。但相信在不久的将来，我们国家也能研制出属于我们自己的光刻机。到那个时候我们就不需要受到外国人的制裁了，因为我们就能制造出芯片供我们的国民使用。
尽管国产光刻机精度只有90nm，非常落后，但还是很有存在的必要！不管是从用户的角度，还是产业的角度，抑或国家的层面，90nm的国产光刻机，都必须存在。国产光刻机制程精度不高，不是取消或者淘汰国产光刻机的理由。如果我们因为国产光刻机落后，就非常进行放弃，把市场拱手相让，必将对相关产业和国家安全造成很大的冲击。对于国产光刻机落后的局面，我们必须抱以更大的耐心和信心。
一、对于低端芯片用户而言，精度90nm的国产光刻机必须存在。
很多人说起芯片制程，言必2nm、5nm、7nm EUV，至于90nm制程工艺，认为根本没有存在的必要。其实，这是一个非常片面的认知。现在的不同的层面，对芯片有着不同的需求。高精度制程的芯片需求，其实只是其中的一块小蛋糕而已。真正的大蛋糕是中低端的芯片，例如90nm制程的芯片。
作为制造强国，我国许多行业对于90nm及以下制程的芯片，有着广泛的需求。电视机、智能家电、功能手机、智能机械设备等，都需要用到精度不高芯片。这些行业的巨量需求，要求国产90nm光刻机，必须存在。唯有这样，才能更好的满足，我国低端芯片用户的需求，不用跑到外国花费更多的钱去进口。
二、对于国内芯片产业链而言，精度90nm的国产光刻机必须存在。
尽管国内的芯片制造工艺，还非常的落后，但也一样是一个巨大的市场，养活了许多芯片从业人员，拉动了很多相关的配套产业。如果真的取消或者淘汰90nm国产光刻机，国内的芯片产业链，将遭受到毁灭性的打击，很有可能毁了整条产业链，让成千上万的从业人员失业。
看看中芯国际的财报，就知道90nm国产光刻机存在的重要性。中芯国际是我国*进的芯片制造厂，目前已经可以量产14nm制程的芯片，28nm等中精度制程的芯片更是不在话下。但中芯国际的2019的财报显示，它31.16亿美金的营收里面，有一半是90nm及以下制程的生产线贡献的。由此可见，90nm的国产光刻机，还是非常重要的。
三、基于国家极端风险，精度90nm的国产光刻机必须存在。
在国家层面上，光刻机的精度和工艺，肯定是越先进越好。我国肯定希望可以进行进入7nm，甚至更高精度的层次。可惜，现实的情况有种种的困难，让我们国家没有办法短时间内进入芯片制程高精度的层次。在没有办法进入高精度层次的情况之下，保证低精度层次的光刻机是非常必要的。
这最起码不会导致国家无“芯”可用。站在国家层面，从最恶劣的角度出发，我们必须要有这个准备。90nm国产光刻机的存在，最起码可用保证我们有芯片可用，不至于全军覆没。要知道，我们很多军用的芯片，都靠90nm及以下精度的光刻机生产。如果我们放弃了90nm的国产光刻机，我们就会处于更加劣势的地位，完全没有讨价还价的能力。从这个角度出发，90nm光刻机必须要有，还要加大力气去扶持。
蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机。具体如下：
1、工作原理
如果把制造芯片比喻成盖房子，那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备，也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设，把不需要的地方给清除掉，只留下光刻过程中标注好的线路。
光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光)，后者按这张图去刻线(就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分)。
2、结构
光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路，其光源和光路的主要组成部分有四个，光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下，蚀刻机的结构组成就要简单很多，主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。
3、售价
ASML的EUV光刻机单台售价很高，蚀刻机的售价要低很多了。
4、工艺
刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。
5、难度
光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。
扩展资料：
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
1.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
2.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
3.自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
参考资料：百度百科-光刻机，百度百科-刻蚀
我没研究过芯片生产工艺，但了解过晒字工艺，理论上来讲是相同的，个人认为解决了高倍放大镜和高倍微缩镜就攻克了50％困难，剩下的50％就是制造工艺的精度问题了，其实想解决工艺差重点在于电机精控，可以采用双级或许多级来缩小工艺误差。
荷兰人这么说是有道理的，图纸只是把光刻机的结构和尺寸告诉你，内部的各个零部件不是有图纸就能自己制造出来的，就像现在的华为手机，美国断供芯片后我们只能用自己的，不过手机性能要回到过去了，为了解决这个问题就要进口荷兰的光刻机，理所当然更难。
之前说航空发动机是工业皇冠，中国人*造不出来，现在太行已经普遍装配，涡扇15也初步成功，所以没有什么是不可能的，中国有人有钱，又不是什么未知领域的黑科技，都是成熟技术，只是加工工艺的问题，只要舍得投入，良品率低些就低些，总会造出来的。这么给你说吧，给你图纸你都造不出来。
第一，零件精度，光刻机是纳米级别的机器，它所需的零件需要高精密度，误差很小，中国为啥好多零件要从外国买，包括发动机，大部分原因就是零件精度不够，你拆卸了，就是造不出来，第二，装配，几万个零件你怎么装，只要其中一两个装不好，那最终误差可就大多了，这不是你装高达，你高达都装不好。第三，技术，其中用到好几百种专利，有些技术中国都没有，你怎么造。这还是最普通的，你真正造起来问题很大的。
我觉得光刻机难度主要是涉及的国际大厂太多，再加上美国对中国的技术封锁中国想要独立制造光刻机涉及的领域太多所以这不是一年两年能做出来的，最起码得等到其他领域都发展到一定得能力才能咱们自己制造。所以只是时间问题。
这个怎么说呢，从工艺角度*是高精度的光刻机更难，但技术都是不断改进来的，花5年十年以中国的精神并非不可实现，原子弹这个从政治角度，从实现角度更难，世界那么多国家能造原子弹的也没多少，这种武器谁不想造？但事实是很多国家偷偷搞了几十年依然搞不出来，更别说氢弹了，作为如今的中国来说，光刻机更难，因为它需要更多产业链的支持，如果全产业链都成熟，造光刻机对中国来说那还不跟玩一样。
光刻机难，从专业人才，设计，材料，工艺，各方面我国都缺。原子弹氢弹那时候我国有一大批**人才，可以说各个都是*人才天才，才把原子弹这些搞出来的，现在我国没这方面人才以及技术。
阿斯麦其实只是一家组装厂，光刻机是世界上最精密的机器，其需要瞬间的精确移动和停止，移动精度误差不大于2纳米，才能造出7纳米制程的cpu芯片，5纳米芯片的移动过程误差不超过1.5纳米。好比两家在飞机跑道上起飞的飞机，一家飞机上伸出一把刀，另一家飞机上伸出一粒米，需要在这粒米上刻一个A字。另外，聚焦激光的光束斑的直径要正好5纳米，控制软件也要纳米级的要求精度。你怎么玩？阿斯麦的各个零部件汇聚了全球各个国家最*的技术产品，有镜头、极紫外光激光、超精密机床、精密控制软件等，这些技术是全人类几百年不断累积的智慧结晶，若中国能评一国之力获得突破，那中国在这些领域将同时登顶世界技术之最。
要知道自身有几斤几两，高端科技那么好搞不至于很多领域被掐脖子，人家赚大头我们只是赚点代工费。汽车发动机相比较芯片来说，肯定是芯片难度大一点，目前为止国产发动机哪个是自主研发的！这个不是吹出来的，有些东西即使可以仿造只是形似，内在的东西差的太远了，不然很多人喜欢买进口的或者代购呢。
可口可乐的配方一直是公开的，为什么这么多年，都没有人可以做到和它一样的味道？还有路虎，以前路虎还没有卖给印度塔塔公司的时候，用美国的发动机，德国的变速箱和软件，基本没有什么大问题，卖个塔塔公司以后，德国仅仅是不给它供软件，其他配件都没有改变，路虎就上了315。
原子弹只要造出来能引爆它就行，没有标准，也不需要考虑市场能不能接受，但这个问题肯定说的不是普通的光刻机，这里说的是世界*进的光刻机。原子弹如果像考试，代表着高分，考出高分有很多种原因的，甚至抄袭都有可能，但*光刻机就代表着你不光要考高分，而且还要保持第一名，这个不是你能抄袭到的。
准确的说原子弹是刚需，光刻机不是，你真的以为荷兰人是外星人？只有他们才能制造最牛逼的光刻机？这是商业因素驱动的，就像美国人的因特尔，不是别的国家做不了，是没必要，如果光刻机牵扯到国家命运，你还会天真的以为地球上只有荷兰人才能掌握这个*技术吗？先不说别的国家，美国第一个就能搞出来这玩意。
光刻机不是靠荷兰一家之力造出来的，它是世界（特别是西方阵营）最*科技的集大成者，其汇集了多个发达国家的多项*技术。以此看得出美国是多么的深谋远虑，它主导了高科技产业在同盟国中分工合作，控制了世界上最发达*进最*的科技，根根需要，一些技术只在它们之间分享，但非同一阵营*被排斥。
航空发动机技术也与此类似。世界上最发达的美欧大洋洲等国家（如美英法意澳加日韩瑞丹荷挪新等国）均属它们同一阵营。可想而知，我们要突破它们的技术壁垒有多难！我们应当与时俱进，放弃不结盟过时陈旧思维，多结交朋友，结成盟友，集思广益，合作攻关，共同战斗！
科学技术一直在进步，光刻机虽然我们起步晚，并不是说我们就不能攻克了。困难是困难，难道困难就不做了吗？举国之力，一个领域一个领域的突破，我相信国家的能力，我也相信中国人自古以来的聪明和能力，现在这个时刻才是关键，让国家让国民清醒，什么才是国家发展的最重要因素，不是一天靠炒房地产，不是靠一天做明星梦，而是靠科技靠知识，靠的是不向老天低头的骨气。中国自古不缺人才。
原子弹是研发集成，光刻机是成果集成。难度前者*，没有现成实物，基本所有都要从理论到实物，各种验证，从无到有，再集成，再优化，再验证。后者难度在优化整合上。攻城不怕坚，攻书莫畏难。科学有险阻，苦战能过关。我们现在各方面条件比刚建国时不知好多少倍，更何况我国已经有了能生产14纳米的光刻机。我坚信我国的科学家和能工巧匠们一定能攻坚克难，再创奇迹！
