光刻机这么难吗（光刻机有多难）
光刻机这么难吗（光刻机有多难）
1、难在它的制造精度，为了便于形象地解释，光刻机制造芯片的过程就相当于“冲洗照片”。设计好的集成电路的电路图相当于照片的“拍摄的内容”，晶圆就相当于“相纸”，光刻机的其它机构就相当于与照相机的“镜头机构”。
2、不同的是洗照片是将照片放大呈现到相纸上，制造芯片是将设计的集成电路微缩到晶圆上拇指大小的区域内，而且电路的投影精度达到了纳米量级。
3、光刻机的加工过程，光刻机技术发展已经发展到了紫外光阶段，我们就以紫外光为例说明。光刻机加工芯片的过程简单地讲就是，光源提供的紫外光照射到刻着电路设计图的掩模板上，紫外光透过掩模板后进入物镜，物镜将掩模板上的电路图大比例的缩小后，将电路投影到硅片上，这样硅片上就刻下设计好的电路图，这个过程中曝光台和测量台处于联动的状态。
首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。
其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国*厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。
其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。
美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。所以说对于我国很多中小企业来说，他们没有充足的资金去研发光刻机。并且加上目前市场已经存在一定的饱和，这些新研发的企业如果大量将产品投产到市场当中，无疑会使得竞争对手和自己两败俱伤。
最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。
从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。并且从目前来看，上海微电子装备已经能够研发出90纳米工艺的芯片。而另外一家公司能够研发出半导体直写的光刻机。并且已经能够实现*200纳米的量产技术。
光刻机是制造集成电路中非常重要的设备，特别是现在市面上大部分的芯片都是属于电子芯片，当电子芯片的工艺小于一定的尺寸的时候，就必须依靠光刻机在制作芯片，也就是说如果没有光刻机就没有办法制造出*的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可能造出。而芯片在生活中是非常重要的，比如电脑、手机等电子产品都少不了。
光刻机的制造难度
光刻机制造难度之大可以用荷兰ASML公司的一句话来表示，对方表示就算把光刻机的图纸拿出来，我们也制造不出光刻机。且不说对方是不是小看了中国制造，从侧面也反映出了光刻机的制作难度之大。因为现在还没有一个国家可以独立的制造出*的光刻机，就算是现在行业领先的ASML公司制造出来的光刻机，也是集合了十几个国家的*技术。
一台小小的光刻机上面就有十几万的小零件，而且为了让光刻机可以领先，所有的零部件都是采用了全世界最领先的技术，所以说光刻机从插头、配件等都是选用了其他国家的*技术，这相当于全世界的技术融合在一起才可以制造出*的光刻机，而且ASML公司背后有台积电、三星以及英特尔这样*的企业投资支持，也是花了几十年的时间才有今天的成绩。
ASML光刻机
荷兰的ASML光刻机基本上都是供不应求，中国也一直想要购买，但是现在还没有收到货。ASML的光刻机基本上都是内部消化了，毕竟台积电、三星以及英特尔本来就是芯片大户，台积电能够在芯片代工领域有今天的成绩，跟手上有这么多的光刻机也有很大的关系。
光刻机的技术的确很难，哪怕放眼世界上的发达国家当中，也就是荷兰和日本两大国家拥有光刻机，并且大多数*的技术都是被荷兰asml公司给掌握垄断的，这一家公司集合了很多欧美国家的技术，也有了时间的沉淀，所以才成为了世界上光刻机的*，并不是一朝一夕就可以做到的，我国还是需要很长的路要走。
我们都知道，这几年我国的科技和经济发展的非常迅速，一跃而起成为了世界第二大经济体，并且在不少科技领域都取得了很大的成就，比如说5G，高铁技术等，但是同样也有不少技术依然掌控在发达国家手中，一些顶端的科技还是被美日欧垄断，今天要说的光刻机也是我国科学技术上面的一大难题，目前世界上光刻机只有荷兰和日本两个国家研发了出来。
那么我国现在经济如此强大，为何还研发不出光刻机，是因为光刻机真的研发出来吗，说得对，光刻机的技术难度的确不是一般的国家可以短时间做到的，我国虽然目前科研水平增长的很快，但是比起一些老牌发达国家来说，不少领域方面还是有一定差距的，毕竟我国才发展了这么短的时间，论沉淀也不如其他的国家，目前世界上大多数*光刻机技术掌握在了荷兰手中，也就是asml公司。
这一家公司几乎聚齐了世界上大部分欧美国家的先进技术，所以通过了时间的沉淀积累，才成为了世界上*的光刻机供应商，目前美国为了遏制我们，就禁止荷兰对我国出口光刻机，所以想要研发出这样的光刻机，并不是短时间内可以做到的，目前我国研发的光刻机依然还是精度不算高的那种，所以说我国还有很长的路需要走。
1、首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国*厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。
2、其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。
3、最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。
