中国光刻机还有多远（中国光刻机需要多少年）
中国光刻机还有多远（中国光刻机需要多少年）
中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距。
第一，目前全球*进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二，中国进口*进的光刻机，是7nm。
2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。
但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三，目前国产*进的光刻机，应该是22nm。
根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。
22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下，实现的这一次技术突破
中国和世界*光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
前些年华为缺芯事件闹得沸沸扬扬。如今华为自主研发芯片让国人为之自豪，但是又有一个问题难道不可以自己制造芯片吗？我们要知道制造芯片需要使用光刻机。但是纵观全球芯片公司，有这个技术和设备的只有三星公司了。它既可以自主研发又可以制造芯片，基本上垄断了行业芯片。但是反观中国目前的光刻机仍不能达到制作高端芯片的要求，技术还很落后。
一、如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作？
查询官网可以知道，如今*进的光刻机是600系列，光刻机*的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，*可以达到5纳米的工艺制作。而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。
二、国内公司可以自主购买EUV光刻机来解决这一现状吗？
答案是否定的。要知道华为缺芯事件就是美国从中作梗，更不可能让国内公司轻易购买到高端光刻机来自主造芯。尽管ASML公司也是通过在全球各地采购相应精良的零部件来组成最终的光刻机，但是任何零部件都无法避开美国的核心技术，所以美国为了达到控制中国发展，不会让中国轻而易举买到光刻机。
要制作出一台精良的光刻机，要做很多的攻坚，不仅要达到美国光源、德国镜头的高层面，还有许许多多的精密仪器。中国光刻机任重道远！在这些精密仪器的背后，同样也需要更多的人才、研究技术、时间投入、技术的积累同样也需要大量的资金。相信中国也会克服这一困难，从此不再受他国制约。
因为华为被打压的事件，让很多企业也是开始注重技术的研发，而不再单纯的靠着交钱使用国外的技术，而之所以华为芯片断供就是因为我们国家自己无法制造光刻机，还是要依靠西方技术的，而我们现在掌握的芯片制造*进的也只是14nm，和现在主流台积电、三星的5nm相比还差的太多。
并且芯片中最重要的光刻机我们还是需要向西方进口，目前，中国国产光刻机制造企业——上海微电子已经可以量产96纳米光刻机，并且成功研发出28纳米的光刻机技术，但是，从研发成功到生产制造出来，还是需要一些时间的，最快也要到2021年才能生产出来。
但是光刻机的制造并不是那么简单的，制造光刻机所需要的核心零部件都是被欧美所垄断，还实施技术封锁，高端的光刻机不卖给我们，零件也不卖，芯片领域也是美国重点打压我国的手段，华为的断供只是一个方面。
目前世界上*进的光刻机企业荷兰的阿斯麦光刻机，阿斯麦公司背后有着英特尔、台积电、三星等股东的支持，并且加入了美国的EUV LLC组织，获得了光刻领域的核心技术支持，也是正因为有着美国的支持阿斯麦才能发展到今天的地位。
据ASML公司公布的数据，一台ASML高端极紫光刻机是由10万多个零部件组装而成，而这10万多个零部件是由全球成百上千家的企业供应。而主要的核心部件都是由欧美发达国家提供。在ASML核心部件前17大供应商中，美国占了9家，台湾占了4家，日本占了3家，德国占了一家。如果美国说不，ASML同样也造不出光刻机。
所以光刻的制造绝不是这么简单的，正如很多人说的那样，它当年我们制造原子弹还难，美国主要打压的是我们高端的光刻技术。中低端就是睁一只眼闭一只眼，上海微电子公司生产的光刻机就不在打压的范围内，可能是技术相差太多了不放在眼里。但是限制华为的芯片供货，禁止台积电为华为代工，还有一只阻止中芯国际的EUV光刻机到货，主要指针对现在主流的7nm、5nm工艺制程的高端芯片。
在光刻机领域我们确实是落后美国太多了，短时间想跟上谈何容易，是需要技术的积累的，而我们想要在这段路上超越并不现实，而我国的技术人员也是在研究其他的芯片生产技术，可能也是一种办法，或许能够实现变道超车。
