国内高端光刻胶企业krF与ArF（krf光刻胶和arf光刻胶）
国内高端光刻胶企业krF与ArF（krf光刻胶和arf光刻胶）
半导体行业一直是投资者很看重的行业，国家也会大力扶持，那么其中的南大光电股票的优势在哪里呢，值得我们投资吗，下面我就认真的来展开分析。正式研究南大光电前，咱们先一块来了解一下这份半导体行业龙头股名单，点击下方链接即可知道：宝藏资料！半导体行业龙头股一栏表
一、从公司角度来看
公司介绍：江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商，其主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED材料等。南大光电依托企业自主创新平台，全面推进研发创新能力建设，自主研发的多个产品获得"高新技术产品认定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。
简单介绍南大光电后，下面将从*的地方开始分析，了解一下投资南大光电会不会亏。
亮点一：自主研发ArF光刻胶产品，加速公司光刻胶业务发展
公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品，从而实现了国内ArF光刻胶从零到一的重大突破，并且公司目前已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶每年的产量高达25吨。目前为止，ArF光刻胶产品接收到小批量订单，在光刻胶国产化的大趋势下，光刻胶业务将带动公司业绩迈入更高的境界。
亮点二：多维度布局半导体材料，技术优势明显
电子特气方面，新一代安全源、混气产品相继产业化，*升级的超高纯砷烷产品品质在测试中已超过目前国际先进同行的技术水平，超高纯磷烷产品也踏进国际*制程的芯片企业，公司氢类电子特气在世界已经名列前茅了。MO源方面，公司通过提升MO源超纯化和超纯分析技术实现了在第三代半导体领域的新应用市场增长，高纯ALD/CVD前驱体产品也实现批量供货国内外先进半导体企业。鉴于文章字数是有限的，这篇研究报告把关于南大光电更深入的分析和潜在风险都详细写了，点击该链接便可了解：【深度研报】南大光电点评，建议收藏！
二、从行业角度看
十四五规划提到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持，这个无疑是利好。这几年，美国和其他国家一同对中国进行高科技封锁，不愿意让我们中国的设备和技术走向世界，这样的做法致使国内市场在半导体技术方面国产化的需求大幅度提高了很多，也侧面的让国内半导体全产业链的发展得到进步了。
光刻胶方面：在供给端中，由于被晶圆厂扩产、疫情等影响到，光刻胶出现了供不应求的局面。在需求端中，国内多家国内晶圆厂也在积极扩产，国内光刻胶需求量远大于本土的生产量且差额逐年扩大，特别是在ArF、高端KrF等半导体光刻胶层面，光刻胶作为"卡脖子"产品在对国产替代方面的需求量在不断激增 。
总而言之，我国对于高科技产业之一的半导体行业很重视，南大光电作为行业的翘楚，发展将会非常快速。不过文章具有一定的时效性，如若想要更精确地去得知南大光电未来行情，建议点击下方链接，就有专业的投顾为你诊股，看下南大光电估值是高估还是低估：【免费】测一测南大光电现在是高估还是低估？
应答时间：2021-10-07，*业务变化以文中链接内展示的数据为准，请点击查看
一、晶瑞股份
核心逻辑：进口替代助力业绩增长，国产光刻胶核心标的。
晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。
二、上海新阳
核心逻辑：半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长，购买光刻机布局高端光刻胶项目。
上海新阳为拓展业务范围及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。
三、南大光电
核心逻辑：ArF光刻胶认证通过，国产材料持续推进。
南大光电主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售。公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施
四、扬帆新材
公司是全球光引发剂重要供应商，公司主要的光引发剂品种众多，其中部分产品可以用于光刻胶生产领域。
上海新阳拟借助资本市场攻关高端光刻胶研发。
8月15日，上海新阳(300236)披露定增预案，公司拟向特定对象发行股票募集资金不超过15亿元，其中7.32亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目，3.48亿元用于集成电路关键工艺材料项目，4.20亿元用于补充公司流动资金。
预案显示，以ArF光刻胶、KrF厚膜光刻胶为代表的高端光刻胶以及工艺的主要技术和专利目前都掌握在国外的企业与研究部门，这些企业几乎占据了国内外高端光刻胶市场全部份额，这种局面严重制约了我国集成电路产业的自主发展。
要攻坚高端光刻胶研发，上海新阳底气何在？据介绍，公司自成立以来，坚持自主创新，成立前10年通过自主研发掌握了面向半导体封装领域的第一代电子电镀与电子清洗技术，成立后10年通过自主研发掌握了面向芯片制造领域的第二代电子电镀与电子清洗技术，为我国芯片制造铜互连工艺填补了国产材料的空白。
“公司已将高端电子光刻技术作为公司发展的重点，研发成功后将成为公司的第三大核心技术，掌握高端光刻胶的产业化技术是公司的战略发展需要。” 上海新阳在预案中表示。
力争于2023年前实现产业化
据披露，上海新阳此次定增对象为不超过35名特定对象，股票发行数量不超过8719.47万股，发行价格不低于定价基准日前20个交易日公司股票均价的80%。
具体来看本次募投项目，募资总额（15亿元）中的7.32亿元将用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目（简称“光刻胶项目”），主要开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的 KrF厚膜光刻胶产品，力争于2023年前实现上述产品的产业化，打破国外垄断，达到国际先进技术水平。
该项目投资总额预计9.33亿元，主要用于设备购置及维护、人员支出、测试化验加工费等。若项目按计划进度进行，预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售，2022年可实现量产，预计ArF（干式）光刻胶项目在2022年可实现少量销售，2023年开始量产，预计当年各项产品销售收入合计可达近2亿元。经公司测算，项目预计内部收益率（所得税后）为26.14%，投资回收期（所得税后）为7.47年，项目净现值为7.23亿元（假设必要收益率为12%）。
上海新阳表示， 预计光刻胶项目研发及产业化成功后，公司将掌握包括光刻胶主要原料纯化工艺、产品配方、生产工艺和应用工艺技术在内的、具有完整知识产权的ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶的规模化生产技术，可实现两大类光刻胶产品及配套试剂的量产供货，并预计将取得20个以上发明专利。
谈及本次光刻胶项目的必要性，上海新阳阐述，自2003年起，半导体产业进入了ArF（193nm）光刻时代，先进制造工艺使用量*的半导体光刻胶也是ArF光刻胶。目前，国内90-14 nm半导体制程的高端半导体芯片制造所用的ArF光刻胶***需要进口，其中超过90%为日本制造，ArF高端光刻胶产品在国内一直是空白。光刻胶产品有着很高的技术壁垒，到目前为止，欧美及日本等国家仍对中国禁止输入ArF光刻胶技术。
据悉，在下游行业3D NAND的光刻技术发展中，KrF光刻技术占主要地位，所需的厚膜光刻胶市场需求量大，感光性能要求高，光刻胶图形侧壁要求笔直，抗刻蚀能力各项异性要求高，但目前该种类的光刻胶多为日韩、欧美等国家提供，代表现阶段及未来5年内处于主流地位的3D NAND制造用的厚膜光刻胶仍难觅国内光刻胶供应商踪影，市场被日本、欧美等光刻胶企业把持。
上海新阳指出，故中国想要掌握ArF和KrF厚膜等高端光刻胶技术只有自力更生、自主创新，高端光刻胶国产化替代势在必行。
部分核心技术已取得突破
据介绍，若该项目成功实施，对我国半导体材料行业来说打破了国外垄断，实现了又一关键材料的自主化。从行业上下游来说，实现了我国集成电路产业掌握核心技术的重要一环，减小发生类似2019年下半年日本限制对韩国出口三项半导体关键材料的“卡脖子”事件的可能，提高了我国整个集成电路产业的安全性。
对公司而言，实施项目是占领技术和市场高地、进一步巩固行业地位、拓展新业绩增长点的重要发展方向，具有重大战略意义。
从项目实施的可行性来看，上海新阳自2017年以来即开始筹备研发光刻胶项目，目前已为光刻胶项目专门配备了由多名海外*专家和国内*研发人才组成的团队，并仍在持续引进高端人才。已经引进的专家均在全球知名光刻胶厂商供职20年以上，拥有开发 KrF 以及 ArF 干法等光刻胶及相关关键材料的丰富经验，还拥有光刻胶树脂及各种光引发剂的开发设计及应用经验，对光刻胶及原材料的研发体系也具有良好的基础。
除外部引进专家人才外，公司也建立了内部的人才梯队，由公司总经理方书农博士亲自担任项目负责人等。据悉，公司前期已在光刻胶项目上投入大量资金，采购了包括光刻机在内的多套光刻胶研发和检测高端设备。
上海新阳透露， 经过长期投入，目前部分核心技术已取得突破，ArF干法光刻胶和 KrF厚膜光刻胶均已形成实验室成果，样品关键参数指标已达到竞品水平，产品已经过数千次试验，得到令人满意的试验结果。目前实验室研发阶段已完成，正在进行中试及后续验证推进。
联合开发化学机械抛光液
本次募资的另一个投向是集成电路关键工艺材料项目，该项目将由公司全资子公司合肥新阳实施。通过实施本项目，公司将为芯片铜互联超高纯硫酸铜电镀液系列、芯片刻蚀超纯清洗液系列等产品合计新增年产能17000吨。
从项目经济效益来看，集成电路关键工艺材料项目总投资额预计3.5亿元，项目建设期两年，完全达产后预计年均营业收入55050.20万元，利润总额为9970.02万元，项目内部收益率（所得税后）为14.70%，投资回收期（所得税后）为8.03年。
同日，上海新阳还宣布，公司已于8月13日同上海晖研签署战略合作协议， 双方拟就化学机械抛光液（CMP Slurry）的开发、生产、销售开展合作，战略合作期限暂定为5年。
据介绍，上海晖研具有化学机械抛光液产品研发团队，具有化学机械抛光液产品研发、生产工艺技术及质量管控、客户技术服务能力等专有技术。上海新阳具有化学机械抛光液产品生产基础条件与产品销售渠道；双方达成产品研发、生产、销售与服务的合作关系。
半导体行业始终是投资者很关注的行业，国家给予了大力的扶持，那么其中的南大光电股票的优势在哪里呢，值得我们投资吗，学姐这就来揭晓答案。准备开始说南大光电之前，咱们先一块来了解一下这份半导体行业龙头股名单，点开就能查看：宝藏资料！半导体行业龙头股一栏表
一、从公司角度来看
公司介绍：江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商，其主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED材料等。南大光电依托企业自主创新平台，全面推进研发创新能力建设，自主研发的多个产品获得"高新技术产品认定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。
粗略讲完南大光电后，下面我们从南大光电做的好的地方开始分析，看看它还值不值得投资。
亮点一：自主研发ArF光刻胶产品，加速公司光刻胶业务发展
公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品，实现了国内ArF光刻胶从零到一的跨越，两条光刻胶生产线是公司目前已完成的建设，光刻胶每年的产量可以达到25吨。目前为止，ArF光刻胶产品接收到小批量订单，随着光刻胶增强国产化趋势，光刻胶业务将带动公司业绩迈入新的成长空间。
亮点二：多维度布局半导体材料，技术优势明显
电子特气方面，新一代安全源、混气产品相继产业化，*升级的超高纯砷烷产品品质在测试中已超过目前国际先进同行的技术水平，超高纯磷烷产品也属于国际*制程的芯片企业，公司氢类电子特气已名列世界榜首。MO源方面，公司通过提升MO源超纯化和超纯分析技术实现了在第三代半导体领域的新应用市场增长，高纯ALD/CVD前驱体产品也实现批量供货国内外先进半导体企业。出于文章字数着想，这篇研报包含了很多关于南大光电更深入的分析和潜在风险提示，打开便能查阅：【深度研报】南大光电点评，建议收藏！
二、从行业角度看
十四五规划提到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持，这个情况无疑是有利的。近年来，美国与其他国家相互合作对中国进行高科技封锁，在出口方面严格控制中国技术和设备的留出，这样的做法致使国内市场在半导体技术方面国产化的需求大幅度提高了很多，也从而使国内半导体全产业链的发展得到了推进。
光刻胶方面：在供给端中，晶圆厂扩产、疫情等多方面因素都对它有影响，光刻胶出现紧缺的局面。在需求端中，国内非常多家国内晶圆厂也在努力抓产能，国内光刻胶的产量远不够需求而且差距还在连年增长，特别是在ArF、高端KrF等半导体光刻胶这一层面，光刻胶作为“卡脖子”产品国产替代需求迫切。
总的来说，半导体行业是我国很重视的高科技产业，南大光电作为行业的领军人物，将有很多的发展机遇等着它。不过文章具有一定的时效性，如若想要更精确地去得知南大光电未来行情，点击网址进去，就有专业投资顾帮你诊断股票，瞅瞅南大光电估值究竟咋样：【免费】测一测南大光电现在是高估还是低估？
应答时间：2021-12-07，*业务变化以文中链接内展示的数据为准，请点击查看
其中，作为芯片光刻过程的关键耗材，半导体光刻胶供不应求、完全靠抢的现状更是备受热议。
众所周知， 光刻胶的质量和性能对于芯片光刻工艺有着重要的影响。这意味着，光刻胶的供应受限，将直接阻碍芯片发展。
对于我国而言， 光刻胶领域长期以来国外先进企业的工艺及参与，对外依存度高达90%。 在当下中国国产芯片突破的关键时刻，倘若因为光刻胶被卡脖子影响了整体芯片行业的进步，将对芯片国产化造成致命的打击。
好在，从目前中国光刻胶领域传来的种种好消息来看，国产光刻胶已经成功破冰。
据7月2日IT之家给出的消息： 南大光电的ArF 光刻胶产品目前已经拿到了小批量订单。
早在5月底，南大光电就已经发布公告表示：公司自主研发的ArF 光刻胶产品通过客户认证，具备55nm工艺要求。
此次南大光电ArF 光刻胶产品成功拿到订单， 意味着我国将打破用于精密工艺的ArF 光刻胶产品一直以来被外企垄断的局面。
今年2月中旬，由于地震等相关因素的影响，日本光刻胶企业信越化学一度停止向中国大陆多家晶圆厂断供光刻胶。
当下全球半导体光刻胶市场主要被日本、美国等企业垄断，中国能够批量生产KrF、ArF光刻胶的厂商屈指可数 。以至于当国外光刻胶企业涨价或断供之后，国内晶圆厂势必要面对光刻胶缺货的窘境。
随着南大光电等国内光刻胶龙头不断进行光刻胶领域的投资研发成功，并取得突出进展，如今已经粉碎了日本企业的垄断梦。
不过，中国要想真正将光刻胶技术垄断在自己手里，还要突破技术与市场两大壁垒。
作为一个劳动与技术高度密集的产业，光刻胶领域存在极高的技术壁垒 。目前80%的光刻胶专利都垄断在日本手中，中国想要实现突破仍需继续努力。
同时，有日本掌握了先进技术以及配套产业链，其当下几乎垄断了整个光刻胶市场。 对于中国光刻胶企业来说，即便能够研发出新技术，能否得到广泛应用还未可知。
由此看来，国产光刻胶想要实现真正意义上的破冰，任重而道远。
投资者一直非常看重国家大力扶持的半导体行业，那么其中的南大光电股票的优势在哪里呢，值得我们投资吗，我立马来为你们揭晓答案。开始阐述南大光电前，我整理好的半导体行业龙头股名单分享给大家，点击就可以领取：宝藏资料！半导体行业龙头股一栏表
一、从公司角度来看
公司介绍：江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商，其主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、OLED材料等。南大光电依托企业自主创新平台，全面推进研发创新能力建设，自主研发的多个产品获得"高新技术产品认定证书"、"国家火炬计划项目证书"等荣誉。
大概研究完南大光电后，下面将从亮点入手分析南大光电是否还值得投资。
亮点一：自主研发ArF光刻胶产品，加速公司光刻胶业务发展
公司成功自主研发出国内首支通过客户认证的ArF光刻胶产品，实现了国内ArF光刻胶从无到有的重大突破，目前公司已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶有高达25吨的年产能。目前为止，ArF光刻胶产品接收到小批量订单，随着光刻胶增强国产化趋势，光刻胶业务将带动公司业绩迈入前所未有的成长空间。
亮点二：多维度布局半导体材料，技术优势明显
电子特气方面，新一代安全源、混气产品相继产业化，*升级的超高纯砷烷产品品质在测试中已超过目前国际先进同行的技术水平，超高纯磷烷产品也踏进国际*制程的芯片企业，公司氢类电子特气已跃居世界前列。MO源方面，公司通过提升MO源超纯化和超纯分析技术实现了在第三代半导体领域的新应用市场增长，高纯ALD/CVD前驱体产品也实现批量供货国内外先进半导体企业。碍于文章受限，这篇研究报告把关于南大光电更深入的分析和潜在风险都详细写了，点开便能看到：【深度研报】南大光电点评，建议收藏！
二、从行业角度看
十四五规划提到要对人工智能、量子信息、集成电路等项目进行扶持，这个无疑是有好处的。这几年间，美国和其他国家合伙对中国进行高科技封锁，阻碍我们中国的设备和技术出口，这也加大了国内市场半导体技术国产化的需求，也侧面推动了国内半导体全产业链的发展。
光刻胶方面：在供给端中，由于受到晶圆厂扩产、疫情等多方面的干扰，光刻胶供给出现紧缺局面。在需求端中，国内非常多家国内晶圆厂也在努力抓产能，国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长，特别针对ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面，光刻胶作为“卡脖子”产品国产替代需求迫切。
综合来说，作为高科技产业的半导体行业，在我国非常受关注，南大光电作为行业的领军人物，将会得到快速发展。只不过文章存在时限性，如若想要更精确地去得知南大光电未来行情，动动小手直接点链接，那里有专业的投顾能帮你诊股，瞅瞅南大光电估值究竟咋样：【免费】测一测南大光电现在是高估还是低估？
应答时间：2021-11-12，*业务变化以文中链接内展示的数据为准，请点击查看
