我国造不出光刻机,有以下三个原因:
1.因为我们的技术有限。为了阻止我们的技术发展,西方国家阻碍了一些技术进入中国。因此,这一限制将影响中国在光刻机的发展。
2.事实上,我们的许多组件的使用取决于国际市场,在这种情况下,我们很难获得国际市场的支持。
3.ASML的成功是因为其技术的局限性,更重要的是,它把一些企业当成了自己的股东,比如三星、台积电,英特尔等等。
所以在这种情况下,会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出。正是因为光刻机的限制,中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响,华为不得不受到限制。因此,只有不断自主研究和开发属于我国的光刻机,才能打破这种束缚。
我们都知道,自从华为在5G技术上占得了先机,美国就一直采取各种措施限制和针对华为,甚至直接采取干扰措施。此前,华为消费者业务CE0余承东表示,因为美国对华为实施的芯片制裁已经开始生效,作为华为芯片供应商的台积电,在此后将会终止与华为的合作,华为手机使用的高端芯片在失去供应商以后,过不了多久,华为手机就会出现无芯片可用的情况。
此消息一出,大家一方面因为美国的制裁感到愤怒,另一方面,则是非常惊讶,同时还感到了无法理解,现在的 科技 水平已经这么高了,华为更是国内的*企业,为什么芯片还得靠别人,而自己却没有能力造呢?很遗憾,但是事实就是如此,高端芯片,不但华为现在还造不出来,国内也很少有企业的制造水平能达到这种地步,最关键的原因就是,我国在半导体领域的技术还不够高,还没有达到那个高度,所以没有条件建造出精度更高光刻机,而如果没有光刻机的话,就完全没有办法造出符合条件的高端芯片。
其实理由也很简单,就一条,因为关键技术太难掌握造不出来,之前有过这么一句话,是评价光刻机的,他说,以我国目前的技术水平来说,我们造的出各种新式导弹,但是却造不出光刻机,所以说,光刻机的稀有程度比原子弹都高。这样的评价可以说是相当中肯的,现在世界上,有9个国家已经可以自行建造原子弹了,而且原子弹的数量还不少,可是完全掌握了高精度光刻机技术的,现在也就只有两个国家,日本和荷兰,差距非常明显。
所以,光刻机的技术难点到底在哪里呢?其中一个关键原因是,要想完成光刻机制造,这个国家的科学水平一定要非常高,而且底蕴深厚,积累足,不仅如此,想完成光刻机的建造,光靠自己是不可能的,其中要用到的很多东西,都必须从国外买。还有一个原因,研发时耗费的资金会非常多,可以说是天文数字。对于中国而言,钱都不是阻碍我们发展光刻机的原因,可是因为中国发展时间不足,所以对该行业不是很了解,熟悉程度也低,别说建造了,研制的时候究竟该从哪里开始,我们刚开始都是一头雾水。想要成功破解光刻机难度是非常大的,在中国看来,难度更是上升了一个档次,让我们在这个方面寸步难行的原因,除开客观条件的影响,还有一道壁垒横在我们面前,那就是西方国家依然还在对中国实行技术封锁,我们当初本来想从国外先引进光刻机,然后再自己进行研制的,所以就和荷兰商议了相关的细节,双方都已经决定交易了,可是美国横插一脚,百般阻拦,荷兰也没有勇气得罪美国,因为美国的再三施压,和中国的光刻机贸易计划只能一拖再拖。
这件事情发生于数十年以前,到了今天,在努力这么久以后,我国对于光刻机的研究又进行到了什么程度呢?根据官方给出的数据我们可以看出,现在来说,数据还不是特别理想,因为我们拥有的光刻机,它的制程是90纳米,而依然处于研制阶段的光刻机,制程缩短到了28纳米的样子,看样子的确是进步颗很多,但是需要注意的是,荷兰的光刻机制程可以达到5纳米至7纳米,我们可以非常直观的感受到,和真正意义上的高精度光刻机相比,我国在这方面还有很长的路要走,所以,华为现在完全没有办法自行制造华为手机需要的高端芯片,用华为的麒麟1020芯片为例,它的制程为最小的5纳米,国内的技术水平完全赶不上。
其实关于这件事情,我们只需要牢记一点就行,那就是,光刻机具有非常关键的意义,如果能拥有它,就代表着我国的科学技术水平又有了新突破,美国的芯片制裁带来的严重危机也在警醒着所有中国人,要是再关键的高新领域发展不起来的话,就相当于把命脉交到了别人手上,别人随时都可以在这方面拿捏你,这样的情况,会让中国在未来陷入困境。如果想彻底不再受制于人,中国必须在这些高新领域继续发展,继续保持全速前进的状态,加大马力,争取在短时间内提高自己的水平
光刻机比原子弹还难造的原因是光刻机本身的技术和零件是难以制造的,西方国家对我国实行技术封锁,连零件都不卖给我们。
从光刻机的零件来看,最难得是镜头,要求精度相当高。我国目前只能做出纳米级别14的镜头。还有一个原因是零件需要工程师们手工打磨。打磨这些零件需要耗费大量的时间。稍不留神,就会损坏。所以我国之前就直接从国外购买,这样价格便宜还能节约时间。光刻机的最*的厂家的是荷兰ASML,其他国家认为这行投入大,产值低,太不划算。
在当今社会,很多智能设备里都含有芯片。芯片技术的高低是衡量一个国家半导体水平高低的一个标准。芯片是由光刻机来制造的。我国之所以没有大龄的芯片是因为缺乏先进的光刻机来进行生产。光刻机跟照相机冲洗照片的原理相似。就是利用曝光的手段在硅片上画画。目前只有荷兰ASML制造出高端的光刻机,而且西方封锁了光刻机的技术,甚至连光科机的零件不买给我们。我们只能摸着石头过河,自己摸索,目前也才达到纳米级别14DE水平。虽然与荷兰相比,我们还有很大的差距,但对那些通常用的设备已经够用了。
记得去年,国外的苹果手机为了赢得华为手机,打价格战。华为手机连芯片都造不出来,为了生存,不得不把华为荣耀卖掉,断臂求生。在国内外手机市场上,华为手机的市场被蚕食。庆幸的是,VIVO跟OPPO 还是占据了前三名。现在随着电动汽车的增多,芯片问题的解决也有助于电动汽车产业的发展。现在我国的电动汽车已经领先美国了,相信我国科研实力的增强,我们一定能欧研制出更精密的芯片,打破国外的阴谋。
造光刻机难的原因有:
1、西方国家的技术封锁:
在光刻机领域,荷兰是最有发言权的,我国很早以前就跟他们取得联系,并且希望进行相关合作,若是双方进行合作的话,很容易就能解决技术问题,可是美国却总是从中作梗,要求荷兰方面封锁相关信息,不愿意让这个技术流到中国这里。
2、没有参照物:
这么多年以来,中国之所以能够发展得这么迅猛,一方面是因为拥有相对技术的经验,另一方面就是因为,可以买到具有参考意义的物品,进行模拟式的研究,而高端光刻机的参照物,我们始终都没有获得,简直就是一张白纸,相关工作很难展开。
3、光刻机技术:
光刻机技术并不仅仅是单纯的一项技术,而是一个集合性质的技术群体,在一个光刻机里面,至少有8万多个电子元件,光刻机凝聚了人类*智慧。
在众多技术难关中有很多关卡,即便是解决了其中一部分,也没有办法将所有的东西拆解开来,与其自己研究,还不如通过商业合作的方式,使用其中某项功能,因此中国的光刻机研究,迟迟没有真正的实现技术突破。
世界的光刻机水平:
实际上中国能制造光刻机,只是不能制造先进光刻机。在2021年的时候,中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机。这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平,而在2021年时国际领先水平是5nm芯片。
单论先进光刻机方面,在目前的市场上是一超多强。荷兰的asml是世界上*、*进的光刻机制造商,占据了全球光刻机市场80%的份额,在行业中基本做到了垄断。
整个世界有4大光刻机生产商,除了荷兰的asml,日本的佳能和尼康也在市场中占据一定份额,而中国也在里面有一个名额,那就是上海微电子。
上海微电子是全球主要的低端光刻机生产商,占据了全球低端光刻机40%的份额。所以就光刻机本身来说,光刻机并不难造,至少对于中国来说光刻机不难造,难造的是最*的光刻机。
光刻机难造.全球目前能制造出*光刻机的国家也就只有荷兰和日本这两个国家。光刻机以光为媒介,刻画微纳于方寸之间,实现各种微米甚至纳米级别的图形加工。
1、首先,光刻机的透镜,光源技术难度大,研发要求历史和时间比较长。其实光刻机的发展历史非常悠久,从90年代开始,发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国*厂商asml负责研发,在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的,它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明,美国生产的7纳米芯片,是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难,因为相机只需要控制光圈,而光刻机不仅仅是要控制光的大小,还要能够利用光。
2、其次,光刻机的研发需要大量的资金支持,很多企业难以承担高昂的研发费用。美国等发达国家研究光刻机,几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用,几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。
3、最后,我国的光刻机技术刚起步,仍然面临着许多难题需要攻克。从目前我国在相关行业发展历史分析,只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。