中低端光刻机（低端光刻机结构）
中低端光刻机（低端光刻机结构）
年产150台设备。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。中国低端光刻机年产量150台设备。主要有德国SUSS、美国MYCRONXQ4006、以及中国品牌。光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。
按照高端、中端、低端三个档次来划分的话，中国目前是属于第三档，正在努力的向第二档迈进。
高端光刻机市场被ASML垄断高端光刻机的市场目前只有ASML一家，也算是应了那一句话“*是多么，多么寂寞”。有朋友习惯把ASML生产的高端光刻机叫“万国牌光刻机”，主要是因为光刻机并不算ASML自己独立生产完成的，95%的零件都是从其他国家采购的，但是这依旧无法动摇ASML在高端光刻机市场的地位。目前ASML的主流产品是7nm的光刻机，5nm的光刻机据说已经研发完成，正在准备量产。一旦这些5nm的光刻机开始售卖，到时候对手机芯片来说将会是又一场革命。
中端光刻机市场ASML、尼康、佳能相互竞争其实说竞争有点过了，按照目前的情况来看是ASML占据大优势，尼康和佳能陪跑。日本的尼康和佳能其实在十年前还是和ASML同等水平，但是由于方向选择错误，进而在光刻机进程中逐渐落败，高端光刻机市场也从之前的三足鼎立变成了现在asml一家独大。由于尼康和佳能在高端光刻机市场毫无优势，所以两家公司已经在光刻机研发方面投入越来越小。佳能已经放弃了光刻机的生产，尼康也只是保留了小部分的产能；可能在不久的未来，两家公司的中端光刻机也没有任何市场了。
低端光刻机市场上海微电子非常有竞争力虽说中国的光刻机在中高端都没有像样的产品，但是在低端光刻机市场上表现十分亮眼。在2018年上海微电子出货光刻机50-60台，在2019年出货量也达到了60台左右，这个成绩还是十分喜人的。目前上海微电子出货的*进的光刻机是90nm的，还是离中端光刻机有一定距离。同时我们需要注意的是上海微电子性质其实和ASML公司有一点类似，他们都更像是组装商。比如上海微电子生产的光刻机中的光栅元件等还是来自于进口，并没有实现国产化，依旧有着被人卡脖子的风险。
由于早些年国内对光刻机这块并不算重视，导致中国光刻机的起步晚、资金投入少、人才也相对不足，这些都是需要解决的问题。除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。
0.355微米的光刻机属于低端光刻机。0.35微米就是350纳米，这个级别的光刻机属于光刻机机型中的低端型。光刻机等级分类是13.5nm极紫外光光源的euv光刻机单独为高端机型，以193纳米为光源但可以加工到45nm以下的为中端光刻机，45nm以上的为低端光刻机。目前高端光刻机只有荷兰能造，而我国上海微电子今年28nm中端光刻机已经通过技术检测和认证，预计年底能量产。
